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Céramique SiC
Mandrin à vide en céramique poreuse
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Mandrin à vide en céramique poreuse


Détail rapide:

1. Autres noms : mandrin à vide en céramique poreuse, mandrin SiC poreux, mandrin poreux.

2. Application : Dispositif d'adsorption sous vide haute performance conçu pour l'adsorption et la fixation de précision de plaquettes et de lingots, adapté à la fabrication de semi-conducteurs, à la découpe de plaquettes, à l'usinage de précision, à l'épitaxie à haute température, à la gravure, à l'implantation ionique et à d'autres scénarios.

3. Paramètres de base :

Porosité réglable (10-200μm).

Ultra-haute température (≤1600°C), excellente résistance aux chocs thermiques.

Vide d'adsorption : standard -90 kPa (peut être personnalisé à 100 kPa).

Taille de la ventouse : prend en charge les plaquettes de 4/6/8/12 pouces, la taille du lingot peut être personnalisée.

Description

Le mandrin à vide en céramique est un dispositif d'adsorption sous vide haute performance conçu pour l'adsorption et la fixation précises des plaquettes et des lingots. Il adopte une structure composite céramique poreuse et bague extérieure métallique, associée à une conception personnalisée des canaux d'air et des pores pour une répartition uniforme de la force d'adsorption et une grande stabilité. Adapté à la fabrication de semi-conducteurs, à la découpe de plaquettes, à l'usinage de précision et à d'autres applications, il supporte les environnements à haute température et à grande vitesse et répond aux exigences de compatibilité de plaquettes et de lingots de différentes tailles.

Service personnalisé

Personnalisation de la taille et de la charge

Optimisation des stomates et des voies respiratoires

Adaptation à un environnement particulier

Exemple de conception


Applications

Fabrication de semi-conducteurs

Croissance épitaxiale : Adsorption stable des plaquettes de SiC à haute température pour éviter la déformation et la contamination.

Lithographie et gravure : Positionnement précis dans la plate-forme mobile à grande vitesse (accélération ≤10G) pour assurer la précision de l'alignement graphique.

Traitement des lingots

Découpe et meulage : Adsorption de lingots de cristal lourds (tels que le saphir, le lingot de carbure de silicium) pour supprimer les fissures des bords causées par les vibrations.

Recherche scientifique et technologie spéciale

Recuit à haute température : les ventouses en carbure de silicium poreux fonctionnent longtemps à 1600°C, sans déformation ni évacuation de la pollution.

Revêtement sous vide : conception à haute étanchéité à l'air, compatible avec l'environnement de cavité PVD/CVD.

Avantage concurrentiel

Structure du noyau et avantages des matériaux

1. Conception composite multicouche

Couche de surface : céramique poreuse (carbure de silicium poreux ou graphite poreux en option), ouverture réglable (10-200 μm) pour assurer un transfert uniforme de la force d'adsorption à la surface de la plaquette afin d'éviter la concentration de contraintes locales.

Matrice : Cadre métallique hautement rigide (acier inoxydable ou alliage d'aluminium) pour assurer un support structurel et une étanchéité à l'air.

Voies respiratoires et pores : Le réseau interne de voies respiratoires usinées avec précision et de micropores uniformément répartis favorise une extraction rapide sous vide (force d'adsorption jusqu'à -90 kPa) et une libération instantanée.

2. Comparaison des propriétés des matériaux

Source Carbure de silicium poreux Graphite poreux
Résistance à la température Température ultra-élevée (≤1600°C), excellente résistance aux chocs thermiques Température moyenne élevée (≤800°C), meilleure conductivité thermique
Durabilité chimique Résistance à la corrosion acide et alcaline, résistance à la corrosion plasma Résistant aux gaz non oxydants, coût réduit
Scène applicable Épitaxie à haute température, gravure, implantation ionique Découpe, meulage et conditionnement de plaquettes

3. Performances clés et paramètres techniques

Description Remarque
Taille du mandrin Prise en charge des plaquettes de 4/6/8/12 pouces, la taille des lingots peut être personnalisée
chargement Charge maximale d'une seule plaque 50 kg (hauteur ≤ 300 mm)
Température de fonctionnement Carbure de silicium poreux : -50°C~1600°C ; Graphite poreux : -50°C~800°C
Vide d'adsorption Standard -90 kPa (personnalisable à -100 kPa)
QFP

Q : Comment choisir un mandrin en carbure de silicium poreux ou en graphite poreux ? Quelles sont les principales différences entre les mandrins en carbure de silicium poreux et en graphite poreux pour les procédés à haute température ? Comment choisir le matériau adapté à l'application ?

A: Mandrin en carbure de silicium poreux :

Résistance à la température : peut fonctionner de manière stable à des températures extrêmement élevées ≤ 1600 °C (telles que l'épitaxie SiC, le recuit à haute température), excellente résistance aux chocs thermiques, adaptée à la scène de fluctuations de température drastiques.

Résistance à la corrosion : résiste à l'érosion par les acides forts, les alcalis et le plasma, convient à la gravure, à l'implantation ionique et à d'autres processus de gaz corrosifs.

Mandrin en graphite poreux :

Conductivité thermique : conductivité thermique plus élevée (200-400 W/m·K), adaptée aux scénarios nécessitant un transfert de chaleur rapide (comme la dissipation de chaleur lors de la découpe de plaquettes).

Économie : Faible coût, adapté aux environnements à température moyenne ≤ 800 °C (tels que l'emballage, le broyage).

Suggestions de sélection :

Si la température du processus est > 800 °C ou si une résistance à la corrosion est requise, le carbure de silicium poreux est préféré ; si la recherche d'une température de processus rentable et basse, vous pouvez choisir le graphite poreux.

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