Plaque de rotation revêtue de TaC

Le plateau rotatif Semixlab revêtu de carbure de tantale (TaC) est conçu pour les environnements haute température et corrosifs fréquemment rencontrés dans les procédés d'épitaxie de semi-conducteurs, de CVD et de croissance cristalline. Ces plateaux rotatifs jouent un rôle essentiel dans le soutien des supports de plaquettes ou des suscepteurs pendant la rotation continue du substrat, assurant une répartition thermique et un dépôt uniformes. Grâce à un revêtement en carbure de tantale (TaC), ce composant atteint une durabilité, une stabilité thermique et une longévité exceptionnelles dans les applications exigeantes de semi-conducteurs sous vide et à haute température.

Services de personnalisation et d'assistance de Semixlab

● Épaisseur et géométrie de revêtement personnalisées

Qu'il s'agisse de plaques de rotation de 200 mm, 300 mm ou personnalisées, l'équipe de Semixlanb propose des solutions de revêtement TaC spécifiques à la géométrie et adaptées à votre environnement de processus.

● Conseil en sélection de matériaux

Besoin d'aide pour choisir entre des substrats en graphite, SiC ou quartz ? Nos ingénieurs vous aident à choisir le matériau de base optimal pour votre revêtement TaC.

● Services de prototypage rapide et de petits lots

Idéal pour la R&D et la production pilote, Semixlab prend en charge les commandes à faible MOQ avec des délais de livraison courts.

● Support après-vente réactif

Du conseil d'installation au suivi des performances du revêtement, notre équipe technique s'assure que vous obtenez une valeur et une fiabilité à long terme de chaque composant que nous livrons.

● Croissance épitaxiale de SiC et GaN

● Dépôt chimique en phase vapeur de composés organométalliques (MOCVD)

● Dépôt chimique en phase vapeur à basse/haute pression (LPCVD / HPCVD)

● Fours de croissance de cristaux de saphir et de SiC

● Chambres de traitement de couches minces avancées

four de croissance épitaxiale en carbure de silicium et accessoires de noyau

En tant que fabricant et fournisseur leader de plaques rotatives revêtues de TaC en Chine, fort d'une expertise industrielle approfondie, d'une technologie de revêtement de précision et d'un engagement fort en matière d'innovation, Semixlab fournit des composants revêtus de TaC répondant aux normes rigoureuses de l'industrie des semi-conducteurs. Nous espérons sincèrement devenir votre partenaire à long terme en Chine.

Principales propriétés physiques et avantages en termes de performances

1. Stabilité thermique exceptionnelle

Le TaC a un point de fusion supérieur à 3880°C, ce qui rend la plaque de rotation revêtue exceptionnellement stable pendant un traitement prolongé à haute température.

Cette résilience thermique est cruciale pour les systèmes MOCVD, LPCVD et PVD, où les substrats sont exposés à des températures fluctuantes et extrêmes.

2. Inertie chimique supérieure

Le carbure de tantale est chimiquement inerte à la plupart des gaz agressifs et des sous-produits corrosifs, notamment le chlore, l’hydrogène et les composés halogénés.

Cette résistance chimique garantit des performances à long terme et des risques de contamination réduits, essentiels pour l'épitaxie SiC, le dépôt de GaN et la croissance du film d'oxyde.

3. Dureté et résistance à l'érosion exceptionnelles

Avec une dureté Vickers supérieure à 2000 HV, la surface revêtue de TaC résiste à l'usure mécanique des mécanismes rotatifs et à l'impact des particules.

L'avantage se traduit par une durée de vie prolongée et une fréquence de remplacement plus faible, minimisant ainsi les temps d'arrêt pour maintenance dans la production de semi-conducteurs.
de produits.

4. Excellente uniformité et adhérence du revêtement

Le procédé de revêtement CVD exclusif de Semixlab garantit des couches de TaC denses, uniformes et bien adhérentes, essentielles pour des résultats de processus cohérents et une génération minimale de particules.