Tube de diffusion en quartz de haute pureté

Le tube de diffusion en quartz haute pureté Semixlab est spécialement conçu pour les processus thermiques à haute température dans la fabrication des semi-conducteurs, notamment l'oxydation, la diffusion de dopants et le recuit.

Fabriqué à partir de silice fondue ultra-pure (≥99.99 % SiO₂), chaque tube est conçu pour offrir une stabilité chimique exceptionnelle, une contamination minimale et une uniformité thermique précise, garantissant des résultats de traitement des plaquettes constants dans des environnements de salles blanches exigeants.

Qu’ils soient intégrés dans des fours de diffusion verticaux ou horizontaux, les tubes de quartz de Semixlab sont formés avec précision et testés minutieusement pour répondre aux exigences rigoureuses de la fabrication de circuits intégrés, de LED, de MEMS et de dispositifs de puissance.

Applications dans les procédés semi-conducteurs

1. Oxydation thermique

Dans les fours d'oxydation thermique, les tubes de diffusion en quartz servent de chambre de réaction principale où les plaquettes de silicium sont exposées à la vapeur d'O₂ ou de H₂O à des températures élevées (900–1150 °C).

● Fournit un environnement d'oxygène propre et stable pour une croissance uniforme de SiO₂.

● Élimine la contamination par les ions métalliques, assurant une intégrité diélectrique élevée pour les oxydes de grille et d'isolation.

Le tube de diffusion en quartz de haute pureté est idéal pour le traitement des plaquettes.

2. Diffusion du dopant

Les tubes de diffusion en quartz sont utilisés pour diffuser des atomes dopants (tels que le phosphore ou le bore) dans le substrat de silicium afin de créer les profils de jonction souhaités.

● Une excellente inertie chimique empêche la contamination lors des réactions POCl₃ ou BBr₃.

● Maintient une pureté élevée même dans des atmosphères à base d'halogènes.

3. Procédés de recuit et de pénétration

Après l'implantation ou le dépôt d'ions, les plaquettes subissent un recuit à haute température pour activer les dopants et réparer les dommages du réseau cristallin.

● Les tubes de quartz offrent une chambre thermiquement uniforme et à faible contamination pour des résultats stables et reproductibles.

● Convient aux environnements de recuit sous N₂ et sous gaz de formage.

4. LPCVD et traitement thermique R&D

Dans les fours LPCVD ou de recherche à petite échelle, les tubes de diffusion en quartz peuvent servir à la fois de chambre de réaction et de chambre de confinement.

● Idéal pour le dépôt de films de polysilicium, de nitrure de silicium et d'oxyde.

● Assure une faible formation de particules et une grande répétabilité d'une série d'essais à l'autre.

Avantages de Semixlab

1. Pureté et traçabilité des matériaux

Chaque tube de quartz est fabriqué à partir de silice fondue ultra-pure provenant de fournisseurs certifiés. Des rapports d'analyse ICP-MS sont disponibles sur demande, garantissant la traçabilité de chaque lot.

2. Fabrication de précision et personnalisation

Semixlab propose des conceptions sur mesure pour répondre aux dimensions spécifiques des fours, aux profils thermiques et aux schémas de flux de gaz requis par les clients.

Les options incluent:

● Configurations de tubes verticaux ou horizontaux

● Diamètres, épaisseurs de paroi et brides d'extrémité personnalisés

● Finitions de surface polies ou gravées

● Conception spéciale pour la manutention des supports multi-plaquettes

3. Tests rigoureux et assurance qualité

Chaque tube de diffusion fait l'objet d'un contrôle dimensionnel, d'un test d'intégrité de surface et d'une simulation de contraintes thermiques avant expédition. Ceci garantit sa compatibilité avec les principaux systèmes de fours à diffusion du secteur, tels que TEL, Kokusai, Centrotherm et ASM.