plaquette de quartz semi-conducteur
En tant que fournisseur chinois de premier plan de plaquettes de quartz pour semi-conducteurs Semimixlab, Semixlab propose des substrats de quartz synthétique de haute pureté, conçus pour les environnements de fabrication de semi-conducteurs les plus exigeants. Grâce à leur excellente stabilité thermique, leur transmission optique élevée et leur planéité de surface supérieure, ces plaquettes de quartz constituent un support idéal pour les procédés de diffusion, d'oxydation, de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD), de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) et d'épitaxie. Nous restons à votre disposition pour toute information complémentaire.
Description
La plaquette de quartz semi-conductrice Semixlab est un substrat en silice fondue ultra-pure, polie avec précision, conçu pour les environnements de traitement des semi-conducteurs exigeants.
Il est largement utilisé comme plaquette factice, plaquette porteuse, substrat optique et base de photomasque dans les systèmes d'oxydation thermique, CVD/LPCVD, PECVD et de lithographie.
Fabriquée à partir de SiO₂ de haute pureté à 99.99 %, cette plaquette de quartz offre une stabilité thermique, une inertie chimique et une transparence optique exceptionnelles, garantissant un fonctionnement stable et sans contamination dans les lignes de fabrication de semi-conducteurs avancées.
I. Propriétés des matériaux et des surfaces
● Matériau : Silice fondue synthétique ou naturelle (SiO₂ ≥ 99.99 %).
● Options de diamètre : 2", 4", 6", 8", 12" (tailles personnalisées disponibles).
● Finition de surface : Poli double face, planéité ≤ 5 μm, rugosité de surface ≤ 0.5 nm.
● Résistance thermique : Stable jusqu'à 1200 °C en fonctionnement continu.
● Coefficient de dilatation thermique : 5.5 × 10⁻⁷ /°C.
● Transmission optique : >90 % de 190 nm à 2 600 nm.
Chaque plaquette subit une inspection de surface rigoureuse, une vérification dimensionnelle et une analyse de pureté afin de garantir sa pleine conformité aux exigences des semi-conducteurs.
II. Fonctions clés des procédés de fabrication des semi-conducteurs
1. Support de procédé dans les systèmes CVD et LPCVD
Des plaquettes de quartz sont utilisées comme plaquettes d'espacement ou de stabilisation pour garantir l'uniformité du flux de gaz et de la température lors du dépôt de couches minces de SiO₂, Si₃N₄ et de polysilicium. Leur précision dimensionnelle assure une croissance uniforme du film et une production minimale de particules tout au long des cycles de dépôt.
2. Applications des fours d'oxydation et de diffusion
Dans les procédés d'oxydation à haute température et de diffusion de dopants, les plaquettes de quartz servent de boucliers thermiques ou de dispositifs de contrôle du processus, assurant une distribution uniforme de la température et empêchant la contamination des plaquettes de production.
3. Utilisation en optique et en lithographie
Grâce à sa transmittance optique élevée et à l'uniformité de son indice de réfraction, la plaquette de quartz est idéale pour la fabrication de photomasques, de substrats d'exposition aux UV profonds et d'outils d'étalonnage optique. Elle garantit une transmission lumineuse constante pour les systèmes de lithographie i-line, KrF et ArF.
4. Environnements de plasma et de gravure
Dans les systèmes de gravure sèche et de CVD plasma, les plaquettes de quartz sont utilisées comme écrans de chambre ou fenêtres plasma, offrant une excellente résistance diélectrique et une durabilité chimique contre les gaz à base d'halogènes (CF₄, SF₆, Cl₂).
5. Métrologie et étalonnage des équipements
Les plaquettes de quartz servent de référence pour l'étalonnage de l'épaisseur, de la température et de la planéité des films. Leur surface ultra-lisse et sans défaut permet d'obtenir des résultats de mesure précis et reproductibles, garantissant ainsi la stabilité du contrôle du processus.
Applications
Applications typiques
● Plaquette factice pour systèmes CVD, LPCVD et PECVD
● Support de procédé ou écran thermique dans les fours d'oxydation et de diffusion
● Substrat de photomask pour lithographie UV/DUV
● Plaquette de référence pour l'étalonnage et la métrologie des équipements
● Protection de la fenêtre de la chambre à plasma et du processus de gravure
La plaquette de quartz pour semi-conducteurs Semixlab est un substrat haute performance conçu pour les procédés semi-conducteurs les plus exigeants. Sa stabilité thermique, sa précision optique et sa pureté chimique en font un matériau indispensable pour les applications de dépôt, d'oxydation, de lithographie et de métrologie. Grâce à une personnalisation complète et un accompagnement technique de qualité, Semixlab propose des solutions qui optimisent la constance des procédés, la fiabilité des rendements et l'efficacité opérationnelle. Nous espérons sincèrement devenir votre partenaire de confiance en Chine sur le long terme.
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