Bateau en SiC de haute pureté

Le support en carbure de silicium (SiC) haute pureté est un support céramique haute performance conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs à haute température, la croissance cristalline et le traitement thermique de précision. Fritté avec du SiC ultra-pur, il présente une excellente résistance aux hautes températures, aux chocs thermiques et à la corrosion chimique. Il est largement utilisé dans la diffusion de semi-conducteurs, le CVD, l'épitaxie LED et la croissance de monocristal photovoltaïque.

Application:

Le SiC haute pureté est un consommable essentiel pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Il est principalement utilisé pour le transport et le transfert de plaquettes dans des environnements à haute température. Il est largement utilisé dans les procédés de diffusion, d'oxydation, de recuit et de CVD des plaquettes de silicium. Il est particulièrement adapté aux procédés à haute température des semi-conducteurs de troisième génération (tels que SiC/GaN) et des dispositifs de puissance.

Services pouvant être fournis :

analyse de scénario d'application client, correspondance des matériaux, résolution de problèmes techniques.

Profil de la société:

Semixlab dispose de 2 laboratoires, d'une équipe d'experts avec 20 ans d'expérience en matériaux, avec des capacités de R&D et de production, de test et de vérification.

Paramètres techniques

Principaux champs d'application

Attestation de vérification de la chaîne écologique

La vérification de la chaîne écologique du bateau SiC haute pureté Semixlab couvre les matières premières jusqu'à la production, a passé la certification standard internationale et dispose d'un certain nombre de technologies brevetées pour garantir sa fiabilité et sa durabilité dans les domaines des semi-conducteurs et des nouvelles énergies.

Processus de candidature typique

Préparation des matières premières (poudre de SiC haute pureté) → Procédé de formage (pressage à sec/pressage isostatique) → Procédé de frittage → Usinage et finition de surface (rectification/polissage CNC, gravure chimique, recuit) → Purification et revêtement CVD → Contrôle qualité → Emballage

Grâce à une optimisation de pointe des paramètres de procédé, la conception structurelle unique de la nacelle SiC haute pureté Semixlab assure une excellente stabilité des plaquettes tout en réduisant considérablement le risque de contamination particulaire. Sa durée de vie peut atteindre 5 à 8 fois celle des nacelles en quartz traditionnelles, ce qui en fait une solution de support idéale pour le traitement des plaquettes à haute température. Cette innovation lui permet de remplacer progressivement les importations sur le marché des semi-conducteurs, offrant une solution nationale performante et économique.

Pour des spécifications techniques détaillées, des livres blancs ou des exemples de modalités de test, veuillez contacter notre équipe d'assistance technique pour découvrir comment Semixlab peut améliorer l'efficacité de votre processus.

Avantages du noyau de bateau en SiC haute pureté Semixlab

1. Pureté extrême (avantage clé)

Le bateau SiC haute pureté Semixlab présente une pureté ultra élevée (≥ 99.9999 %), et la teneur en impuretés (Fe, Al, Na, etc.) est contrôlée au niveau de 1 ppm pour éviter la contamination des plaquettes ou des matériaux épitaxiaux, ce qui est particulièrement adapté à la fabrication de semi-conducteurs SiC/GaN.

2. Inertie chimique (résistance à la corrosion)

Résistant à l'érosion acide, alcaline et plasma, et aux gaz corrosifs tels que HF, HCl et H2 (notamment lors des procédés de gravure des semi-conducteurs). Aucun dégagement de gaz à haute température.

3. Résistance mécanique et durée de vie

Dureté ultra-élevée, excellente résistance à l'usure, réduction du risque de décollement de particules et prolongation de la durée de vie (généralement 3 à 5 fois supérieure à celle d'une nacelle en quartz). Faible déformation à haute température, préservant la planéité de la plaquette (gauchissement dans un four de diffusion < 0.1 mm, par exemple).

4. Compatibilité des processus

Adaptable à divers environnements difficiles, aux atmosphères d'oxydation/réduction (telles que O₂, H₂, Ar) et aux procédés de revêtement CVD/PVD. La surface peut être personnalisée, par exemple par polissage (Ra<2 μm) ou par revêtement (tel que SiO₂), pour réduire davantage la contamination.