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Photorésine de gravure

La gravure par photorésine est un procédé essentiel pour former des motifs fins sur les composants électroniques. La photorésine est un matériau unique, modifiable par exposition à la lumière. Elle est appliquée sur une surface juste avant la gravure. La lumière durcit et protège la photorésine de tout ce qui se trouve en dessous. Ce Semixlab photorésine de gravure aide à créer des motifs précis sur le tissu.

2.2 Appliquer la résine photosensible. À l'aide d'un outil, appliquez la résine photosensible sur la surface supérieure de la plaquette de silicium. Vous trouverez les instructions détaillées concernant l'épaisseur de la couche dans la section « Comment réaliser ».


Guide étape par étape pour la gravure de résine photosensible pour débutants

Exposez la résine photosensible : placez un masque du motif souhaité sur la résine photosensible et exposez-le aux UV. La lumière solidifiera les parties de la résine photosensible et formera une couche protectrice pour la gravure.

Gravure du matériau : une fois le motif visible, appliquez un agent de gravure pour graver le matériau. Le Semixlab photorésine négative Le motif que vous dessinez servira de guide à la résine photosensible pour savoir où durcir, et vous retirerez ensuite la résine photosensible non durcie et graverez la zone non protégée.

Pourquoi choisir la résine photosensible Semixlab Etching ?

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